Conductive line contact regions having multiple multi-direction conductive lines and staircase conductive line contact structures for semiconductor devices

WO2022072043 Art A1 7. April 2022

Anmelder: MICRON TECHNOLOGY, INC. 🇺🇸

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2022072043
Aktenzeichen: EP21876170
Anmeldetag: 28. Juli 2021
Veröffentlichung: 7. April 2022
Rechtsraum: WO
IPC: H01L27/108G11C11/4097G11C8/14

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: MICRON TECHNOLOGY, INC.
Land: 🇺🇸 USA

🇺🇸 Micron Technology

US-amerikanisches Halbleiterunternehmen mit Sitz in Boise, Idaho. Micron entwickelt und fertigt Speicherchips wie DRAM und NAND-Flash sowie Speicherlösungen für Computer, Mobilgeräte, Rechenzentren und Automobile.

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Fachgebiete

Akustik, Musik & Datenspeicherung Halbleiter & Elektrische Bauelemente

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