Substrate polish edge uniformity control with second fluid dispense

WO2022072066 Art A1 7. April 2022

Anmelder: APPLIED MATERIALS, INC. 🇺🇸

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2022072066
Aktenzeichen: EP21876179
Anmeldetag: 6. August 2021
Veröffentlichung: 7. April 2022
Rechtsraum: WO
IPC: B24B57/02B24B55/02B24B37/20B24B37/015B24B49/14

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: APPLIED MATERIALS, INC.
Land: 🇺🇸 USA

🇺🇸 Applied Materials

US-amerikanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Santa Clara, Kalifornien. Applied Materials entwickelt Fertigungsanlagen und Prozesstechnologien für die Halbleiter-, Display- und Solarindustrie, unter anderem für Beschichtung, Ätzen und Materialabscheidung.

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Fachgebiete

Werkzeug-, Fertigungs- & Drucktechnik

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