Curable resin composition for silicon-containing resist, method for forming pattern, method for manufacturing imprint mold, and method for manufacturing semiconductor device

WO2022075361 Art A1 14. April 2022

Anmelder: DAI NIPPON PRINTING CO., LTD. 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.
WO2022075361
Aktenzeichen
EP21877660
Anmeldetag
6. Oktober 2021
Veröffentlichung
14. April 2022
Rechtsraum
WO
IPC
C08F230/08G03F7/075G03F7/40H01L21/027B29C59/02
Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma
DAI NIPPON PRINTING CO., LTD.
Land
🇯🇵 Japan
🇯🇵 Dai Nippon Printing

Japanisches Unternehmen der Druckindustrie mit Sitz in Tokio, das sich über klassische Druckerzeugnisse hinaus in Elektronikmaterialien, Displaykomponenten und Verpackungslösungen diversifiziert hat.

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