Aperture patterns for defining multi-beams

WO2022078802 Art A1 21. April 2022

Anmelder: ASML NETHERLANDS B.V. 🇳🇱

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2022078802
Aktenzeichen: EP21786908
Anmeldetag: 4. Oktober 2021
Veröffentlichung: 21. April 2022
Rechtsraum: WO
IPC: H01J37/04H01J37/317

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: ASML NETHERLANDS B.V.
Land: 🇳🇱 Niederlande

🇳🇱 ASML

Niederländisches Unternehmen, das Lithografiesysteme und weitere Anlagen für die Halbleiterfertigung entwickelt und herstellt, zentral für die Chipindustrie.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente

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