Group 13 element nitride crystal layer growth method, nitride semiconductor ingot and sputtering target
WO2022079962
Art A1
21. April 2022
Anmelder: NGK INSULATORS, LTD. 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO2022079962
- Aktenzeichen
- EP21879705
- Anmeldetag
- 12. Juli 2021
- Veröffentlichung
- 21. April 2022
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- C30B29/38C23C14/34C30B19/04C30B23/02C30B33/00
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- NGK INSULATORS, LTD.
- Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
NGK Insulators
Japanisches Industrieunternehmen mit Sitz in Nagoya. NGK Insulators fertigt Keramikprodukte, darunter Isolatoren, Abgaskatalysatorträger, Sensoren und Energiespeichersysteme für Energieversorgung, Automobil und Industrie.
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