Substrate polishing apparatus with contact extension or adjustable stop
WO2022081398
Art A1
21. April 2022
Anmelder: APPLIED MATERIALS, INC. 🇺🇸
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO2022081398
- Aktenzeichen
- EP21880802
- Anmeldetag
- 6. Oktober 2021
- Veröffentlichung
- 21. April 2022
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- B24B37/30B24B41/06H01L21/67
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- APPLIED MATERIALS, INC.
- Land
- 🇺🇸 USA
🇺🇸
Applied Materials
US-amerikanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Santa Clara, Kalifornien. Applied Materials entwickelt Fertigungsanlagen und Prozesstechnologien für die Halbleiter-, Display- und Solarindustrie, unter anderem für Beschichtung, Ätzen und Materialabscheidung.
10.783 Patente in unserer Datenbank
Vertreten von
Kein Vertreter erfasst.