Binäre Intensitätsmaske für den Euv-Spektralbereich

WO2022084317 Art A1 28. April 2022

Anmelder: CARL ZEISS SMT GMBH, ASML NETHERLANDS B.V. 🇩🇪

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2022084317
Aktenzeichen: EP21798326
Anmeldetag: 19. Oktober 2021
Veröffentlichung: 28. April 2022
Rechtsraum: WO
IPC: G03F1/22G03F1/24G03F7/20G01J9/02G01M11/02

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firmen: CARL ZEISS SMT GMBH
ASML NETHERLANDS B.V.
Land: 🇩🇪 Deutschland

🇩🇪 Carl Zeiss SMT

Deutsches Unternehmen der Carl Zeiss Gruppe mit Sitz in Oberkochen, das optische Systeme und Lithographieoptiken für die Halbleiterindustrie entwickelt.

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🇳🇱 ASML

Niederländisches Unternehmen, das Lithografiesysteme und weitere Anlagen für die Halbleiterfertigung entwickelt und herstellt, zentral für die Chipindustrie.

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Fachgebiete

Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik Optik & Fototechnik

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