Growth of thin oxide layer with amorphous silicon and oxidation

WO2022086649 Art A1 28. April 2022

Anmelder: APPLIED MATERIALS, INC. 🇺🇸

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2022086649
Aktenzeichen: EP21883495
Anmeldetag: 16. September 2021
Veröffentlichung: 28. April 2022
Rechtsraum: WO
IPC: H01L21/28H01L21/321H01L21/02H01L27/108H01L29/66

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: APPLIED MATERIALS, INC.
Land: 🇺🇸 USA

🇺🇸 Applied Materials

US-amerikanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Santa Clara, Kalifornien. Applied Materials entwickelt Fertigungsanlagen und Prozesstechnologien für die Halbleiter-, Display- und Solarindustrie, unter anderem für Beschichtung, Ätzen und Materialabscheidung.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente

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