Sequential application of cleaning fluids for improved maintenance of chemical mechanical polishing systems
WO2022086672
Art A1
28. April 2022
Anmelder: APPLIED MATERIALS, INC. 🇺🇸
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO2022086672
- Aktenzeichen
- EP21883508
- Anmeldetag
- 24. September 2021
- Veröffentlichung
- 28. April 2022
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- B24B37/04B24B37/10B24B55/06B24B51/00H01L21/67
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- APPLIED MATERIALS, INC.
- Land
- 🇺🇸 USA
🇺🇸
Applied Materials
US-amerikanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Santa Clara, Kalifornien. Applied Materials entwickelt Fertigungsanlagen und Prozesstechnologien für die Halbleiter-, Display- und Solarindustrie, unter anderem für Beschichtung, Ätzen und Materialabscheidung.
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Vertreten von
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