Etching Aluminum Nitride Or Aluminum Oxide To Generate an Aluminum Ion Beam
WO2022093404
Art A1
5. Mai 2022
Anmelder: AXCELIS TECHNOLOGIES, INC. 🇺🇸
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO2022093404
- Aktenzeichen
- EP21786681
- Anmeldetag
- 8. September 2021
- Veröffentlichung
- 5. Mai 2022
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- H01J37/08C23C14/48H01J37/317
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- AXCELIS TECHNOLOGIES, INC.
- Land
- 🇺🇸 USA
🇺🇸
Axcelis Technologies
Axcelis Technologies, Inc. ist ein US-amerikanischer Hersteller von Ionenimplantationsanlagen für die Halbleiterfertigung mit Sitz in Beverly, Massachusetts. Das Patentportfolio ist fast vollständig auf Halbleiter und elektrische Bauelemente konzentriert, ergänzt um Oberflächentechnik und Mess- und Prüftechnik. Das Unternehmen meldet durchgehend seit 2000 an.
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