A method for modeling measurement data over a substrate area and associated apparatuses

WO2022101204 Art A1 19. Mai 2022

Anmelder: ASML NETHERLANDS B.V. 🇳🇱

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2022101204
Aktenzeichen: EP21810000
Anmeldetag: 9. November 2021
Veröffentlichung: 19. Mai 2022
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/20G03F9/00

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: ASML NETHERLANDS B.V.
Land: 🇳🇱 Niederlande

🇳🇱 ASML

Niederländisches Unternehmen, das Lithografiesysteme und weitere Anlagen für die Halbleiterfertigung entwickelt und herstellt, zentral für die Chipindustrie.

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Fachgebiete

Optik & Fototechnik

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