Electron beam application device
WO2022101957
Art A1
19. Mai 2022
Anmelder: HITACHI HIGH-TECH CORPORATION 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO2022101957
- Aktenzeichen
- EP20961485
- Anmeldetag
- 10. November 2020
- Veröffentlichung
- 19. Mai 2022
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- H01J37/08H01J1/34
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- HITACHI HIGH-TECH CORPORATION
- Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
Hitachi High-Tech Corporation
Japanisches Unternehmen der Hitachi-Gruppe, spezialisiert auf Analysegeräte, medizinische Diagnostik und Fertigungsanlagen für die Halbleiterindustrie.
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