Radiation-sensitive resin composition and pattern formation method

WO2022102190 Art A1 19. Mai 2022

Anmelder: JSR CORPORATION 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2022102190
Aktenzeichen: EP21891438
Anmeldetag: 17. August 2021
Veröffentlichung: 19. Mai 2022
Rechtsraum: WO
IPC: C07C309/12C07C381/12C08F220/18C08F220/28G03F7/004G03F7/038G03F7/039G03F7/20

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: JSR CORPORATION
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 JSR Corporation

JSR Corporation ist ein japanisches Chemieunternehmen, das synthetische Kautschuke sowie Materialien für die Halbleiter- und Displayindustrie herstellt.

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Fachgebiete

Kunststoff- & Polymertechnik Optik & Fototechnik Organische Chemie

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