Composition for underlayer film formation, underlayer film, and lithography process

WO2022102304 Art A1 19. Mai 2022

Anmelder: JSR CORPORATION 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2022102304
Aktenzeichen: EP21891551
Anmeldetag: 8. Oktober 2021
Veröffentlichung: 19. Mai 2022
Rechtsraum: WO
IPC: C08C19/20C08C19/24B82Y30/00B82Y40/00G03F7/11G03F7/40

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: JSR CORPORATION
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 JSR Corporation

JSR Corporation ist ein japanisches Chemieunternehmen, das synthetische Kautschuke sowie Materialien für die Halbleiter- und Displayindustrie herstellt.

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Fachgebiete

Kunststoff- & Polymertechnik Optik & Fototechnik

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