Metal mask for vapor deposition and method for manufacturing metal mask for vapor deposition

WO2022102729 Art A1 19. Mai 2022

Anmelder: TOPPAN INC. 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2022102729
Aktenzeichen: EP21891974
Anmeldetag: 11. November 2021
Veröffentlichung: 19. Mai 2022
Rechtsraum: WO
IPC: C23C14/04H01L51/50H05B33/10

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: TOPPAN INC.
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Toppan Printing

Japanischer Konzern für Druck- und Verpackungstechnologien mit Sitz in Tokio, seit 1900 tätig. Produziert zudem Displays, Halbleitermasken und Sicherheitsdrucke.

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Fachgebiete

Elektronik & Schaltungstechnik Halbleiter & Elektrische Bauelemente Metallurgie & Oberflächentechnik

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