Apparatus, systems, and methods of using atomic hydrogen radicals with selective epitaxial deposition

WO2022103626 Art A1 19. Mai 2022

Anmelder: APPLIED MATERIALS, INC. 🇺🇸

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2022103626
Aktenzeichen: EP21892589
Anmeldetag: 2. November 2021
Veröffentlichung: 19. Mai 2022
Rechtsraum: WO
IPC: C30B33/12C30B33/02C30B25/02C30B29/06

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: APPLIED MATERIALS, INC.
Land: 🇺🇸 USA

🇺🇸 Applied Materials

US-amerikanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Santa Clara, Kalifornien. Applied Materials entwickelt Fertigungsanlagen und Prozesstechnologien für die Halbleiter-, Display- und Solarindustrie, unter anderem für Beschichtung, Ätzen und Materialabscheidung.

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Fachgebiete

Metallurgie & Oberflächentechnik

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