Stochastic-aware lithographic models for mask synthesis

WO2022103874 Art A1 19. Mai 2022

Anmelder: SYNOPSYS, INC. 🇺🇸

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2022103874
Aktenzeichen: EP21819676
Anmeldetag: 10. November 2021
Veröffentlichung: 19. Mai 2022
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/20G03F1/70

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: SYNOPSYS, INC.
Land: 🇺🇸 USA

🇺🇸 Synopsys

Synopsys ist ein US-amerikanischer Anbieter von Software für den Chip- und Systementwurf (EDA) mit Sitz in Kalifornien. Das Patentportfolio konzentriert sich auf Software und Datenverarbeitung sowie Halbleiter und elektrische Bauelemente, ergänzt durch Optik und Elektronik für Entwurfswerkzeuge. Anmeldungen reichen von 2000 bis in die Gegenwart.

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Fachgebiete

Optik & Fototechnik

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