Method of forming a patterned layer of material

WO2022106157 Art A1 27. Mai 2022

Anmelder: ASML NETHERLANDS B.V. 🇳🇱

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2022106157
Aktenzeichen: EP21801062
Anmeldetag: 25. Oktober 2021
Veröffentlichung: 27. Mai 2022
Rechtsraum: WO
IPC: C23C16/04C23C16/48G03F7/004G03F7/16H01L21/02H01L21/027H01L29/739

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: ASML NETHERLANDS B.V.
Land: 🇳🇱 Niederlande

🇳🇱 ASML

Niederländisches Unternehmen, das Lithografiesysteme und weitere Anlagen für die Halbleiterfertigung entwickelt und herstellt, zentral für die Chipindustrie.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Metallurgie & Oberflächentechnik Optik & Fototechnik

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