Heizeinrichtung für einen Cvd-Reaktor

WO2022106174 Art A1 27. Mai 2022

Anmelder: AIXTRON SE 🇩🇪

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2022106174
Aktenzeichen: EP21798720
Anmeldetag: 28. Oktober 2021
Veröffentlichung: 27. Mai 2022
Rechtsraum: WO
IPC: C23C16/46C30B25/10H01L21/67H05B3/06H05B3/24

Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firma: AIXTRON SE
Land: 🇩🇪 Deutschland

🇩🇪 Aixtron

Aixtron ist ein deutscher Hersteller von Depositionsanlagen für die Halbleiterindustrie. Der Patentbestand konzentriert sich auf Metallurgie und Oberflächentechnik sowie Halbleiterbauelemente, ergänzt durch Verfahrens- und Messtechnik. Die Anmeldungen aus 2000 bis 2025 betreffen unter anderem die Reinigung und den Betrieb von CVD-Reaktoren.

303 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Elektronik & Schaltungstechnik Halbleiter & Elektrische Bauelemente Metallurgie & Oberflächentechnik

Vertreten von