Composition for resist underlayer and pattern formation method using same

WO2022108231 Art A1 27. Mai 2022

Anmelder: SAMSUNG SDI CO., LTD. 🇰🇷

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2022108231
Aktenzeichen: EP21895001
Anmeldetag: 11. November 2021
Veröffentlichung: 27. Mai 2022
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/09G03F7/20G03F7/26G03F7/16C08L79/04

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: SAMSUNG SDI CO., LTD.
Land: 🇰🇷 Südkorea

🇰🇷 Samsung SDI

Südkoreanisches Unternehmen der Samsung-Gruppe, das Batterien und Energiespeichersysteme für Elektrofahrzeuge, Elektronikgeräte und stationäre Anwendungen entwickelt und produziert.

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Fachgebiete

Kunststoff- & Polymertechnik Optik & Fototechnik

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