Semiconductor process device and plasma starting method
WO2022111427
Art A1
2. Juni 2022
Anmelder: Beijing NAURA Microelectronics Equipment Co., Ltd. 🇨🇳
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO2022111427
- Aktenzeichen
- EP21896928
- Anmeldetag
- 23. November 2021
- Veröffentlichung
- 2. Juni 2022
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- H01J37/32
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- Beijing NAURA Microelectronics Equipment Co., Ltd.
- Land
- 🇨🇳 China
🇨🇳
Beijing NAURA Microelectronics Equipment
Beijing NAURA Microelectronics Equipment ist ein chinesischer Hersteller von Fertigungsanlagen für die Halbleiterindustrie. Das Patentportfolio konzentriert sich auf Halbleiter und elektrische Bauelemente sowie Metallurgie und Oberflächentechnik, mit weiteren Anmeldungen in Elektronik und Prozesssteuerung. Anmeldungen reichen von 2013 bis in die Gegenwart.
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