A mirror spot position calibrating method, a lithographic apparatus and a device manufacturing method

WO2022111940 Art A1 2. Juni 2022

Anmelder: ASML NETHERLANDS B.V. 🇳🇱

Details

Veröffentlichungs-Nr.
WO2022111940
Aktenzeichen
EP21801903
Anmeldetag
28. Oktober 2021
Veröffentlichung
2. Juni 2022
Rechtsraum
WO
IPC
G01B9/02018G01B9/02015G01B9/02017G01B9/02055G03F7/20
Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma
ASML NETHERLANDS B.V.
Land
🇳🇱 Niederlande
🇳🇱 ASML

Niederländisches Unternehmen, das Lithografiesysteme und weitere Anlagen für die Halbleiterfertigung entwickelt und herstellt, zentral für die Chipindustrie.

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