Polycrystal silicon rod, polycrystal silicon rod production method, and polycrystal silicon thermal processing method
WO2022113460
Art A1
2. Juni 2022
Anmelder: TOKUYAMA CORPORATION 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO2022113460
- Aktenzeichen
- EP21897438
- Anmeldetag
- 1. September 2021
- Veröffentlichung
- 2. Juni 2022
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- C01B33/035
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- TOKUYAMA CORPORATION
- Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
Tokuyama
Japanisches Chemieunternehmen mit Sitz in Shunan, gegründet 1918. Produziert unter anderem Spezialchemikalien, Zement und Halbleitermaterialien.
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