Silicon-containing composition and method for producing semiconductor substrate

WO2022113781 Art A1 2. Juni 2022

Anmelder: JSR CORPORATION 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2022113781
Aktenzeichen: EP21897755
Anmeldetag: 12. November 2021
Veröffentlichung: 2. Juni 2022
Rechtsraum: WO
IPC: C08G77/04C08K5/00C08L83/04C09D183/04G03F7/11H01L21/027

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: JSR CORPORATION
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 JSR Corporation

JSR Corporation ist ein japanisches Chemieunternehmen, das synthetische Kautschuke sowie Materialien für die Halbleiter- und Displayindustrie herstellt.

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Fachgebiete

Farben, Klebstoffe & Brennstoffe Halbleiter & Elektrische Bauelemente Kunststoff- & Polymertechnik Optik & Fototechnik

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