Radiation-sensitive resin composition, method for forming pattern, and onium salt compound
WO2022113814
Art A1
2. Juni 2022
Anmelder: JSR CORPORATION 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO2022113814
- Aktenzeichen
- EP21897788
- Anmeldetag
- 16. November 2021
- Veröffentlichung
- 2. Juni 2022
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- C07C65/10C07C309/12C07C309/17C07C381/12C07D207/16C07D211/60C07D211/62C07D327/06C07D333/76C07D405/12C07D491/113C09K3/00G03F7/004G03F7/038G03F7/039G03F7/20
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- JSR CORPORATION
- Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
JSR Corporation
JSR Corporation ist ein japanisches Chemieunternehmen, das synthetische Kautschuke sowie Materialien für die Halbleiter- und Displayindustrie herstellt.
2.270 Patente in unserer Datenbank
Vertreten von
Kein Vertreter erfasst.