Substrate foreign matter inspection device and substrate foreign matter inspection method

WO2022118523 Art A1 9. Juni 2022

Anmelder: CKD CORPORATION 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.
WO2022118523
Aktenzeichen
EP21900279
Anmeldetag
22. September 2021
Veröffentlichung
9. Juni 2022
Rechtsraum
WO
IPC
G01N21/956
Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firma
CKD CORPORATION
Land
🇯🇵 Japan
🇯🇵 CKD

CKD ist ein japanischer Hersteller von Automatisierungs-, Pneumatik- und Verpackungstechnik mit Sitz in Komaki. Das Patentportfolio betrifft Mess-, Prüf- und Zeitmesstechnik sowie Maschinenelemente und Fluidtechnik, insbesondere Ventile und Fördersysteme. Die Anmeldungen erstrecken sich von 2001 bis 2025.

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