Metal-containing film formation composition, metal-containing film, metal-containing film formation method, and production method of metal-containing film formation composition

WO2022118698 Art A1 9. Juni 2022

Anmelder: JSR CORPORATION 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.
WO2022118698
Aktenzeichen
EP21900453
Anmeldetag
24. November 2021
Veröffentlichung
9. Juni 2022
Rechtsraum
WO
IPC
C23C18/02C23C18/34
Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firma
JSR CORPORATION
Land
🇯🇵 Japan
🇯🇵 JSR Corporation

JSR Corporation ist ein japanisches Chemieunternehmen, das synthetische Kautschuke sowie Materialien für die Halbleiter- und Displayindustrie herstellt.

2.270 Patente in unserer Datenbank

Vertreten von

Kein Vertreter erfasst.

Noch Fragen?

Wir helfen Ihnen gerne weiter. Schreiben Sie uns einfach.

Kontakt aufnehmen