Metal-containing film formation composition, metal-containing film, metal-containing film formation method, and production method of metal-containing film formation composition
WO2022118698
Art A1
9. Juni 2022
Anmelder: JSR CORPORATION 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO2022118698
- Aktenzeichen
- EP21900453
- Anmeldetag
- 24. November 2021
- Veröffentlichung
- 9. Juni 2022
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- C23C18/02C23C18/34
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- JSR CORPORATION
- Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
JSR Corporation
JSR Corporation ist ein japanisches Chemieunternehmen, das synthetische Kautschuke sowie Materialien für die Halbleiter- und Displayindustrie herstellt.
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