Reflection-type mask blank for euv lithography, reflection-type mask for euv lithography, and manufacturing methods therefor

WO2022118762 Art A1 9. Juni 2022

Anmelder: AGC INC. 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2022118762
Aktenzeichen: EP21900516
Anmeldetag: 26. November 2021
Veröffentlichung: 9. Juni 2022
Rechtsraum: WO
IPC: G03F1/24G03F1/48G03F1/54G03F1/80H01L21/3065C23C14/06G02B5/08

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: AGC INC.
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 AGC (Asahi Glass)

Japanischer Glas- und Chemiekonzern mit Sitz in Tokio, früher als Asahi Glass Company firmierend. AGC entwickelt Flachglas, elektronische Materialien, Spezialchemikalien sowie Glasprodukte für Automobil-, Bau- und Elektronikindustrie.

7.332 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Metallurgie & Oberflächentechnik Optik & Fototechnik

Vertreten von