Curable resin film, film material for semiconductor device production, curable resin composition for semiconductor device production, and method for producing semiconductor device

WO2022118969 Art A1 9. Juni 2022

Anmelder: RESONAC CORPORATION 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.
WO2022118969
Aktenzeichen
EP21900718
Anmeldetag
3. Dezember 2021
Veröffentlichung
9. Juni 2022
Rechtsraum
WO
IPC
H01L23/12
Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma
RESONAC CORPORATION
Land
🇯🇵 Japan
🇯🇵 Resonac

Japanischer Chemiekonzern mit Sitz in Tokio, hervorgegangen aus Showa Denko. Das Unternehmen stellt unter anderem Halbleitermaterialien, Elektronikchemikalien und funktionale Chemieprodukte her.

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