Deep learning based adaptive alignment precision metrology for digital overlay
WO2022119796
Art A1
9. Juni 2022
Anmelder: APPLIED MATERIALS, INC. 🇺🇸
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO2022119796
- Aktenzeichen
- EP21901300
- Anmeldetag
- 30. November 2021
- Veröffentlichung
- 9. Juni 2022
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- G03F9/00G03F7/20G06N3/08H04N7/18H04N9/31
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- APPLIED MATERIALS, INC.
- Land
- 🇺🇸 USA
🇺🇸
Applied Materials
US-amerikanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Santa Clara, Kalifornien. Applied Materials entwickelt Fertigungsanlagen und Prozesstechnologien für die Halbleiter-, Display- und Solarindustrie, unter anderem für Beschichtung, Ätzen und Materialabscheidung.
10.783 Patente in unserer Datenbank
Vertreten von
Kein Vertreter erfasst.