Silica modification method, silica filler, and epoxy resin composite material

WO2022120907 Art A1 16. Juni 2022

Anmelder: Shenzhen Institutes of Advanced Technology (SIAT), Chinese Academy of Sciences (CAS) 🇨🇳

Details

Veröffentlichungs-Nr.
WO2022120907
Aktenzeichen
EP20964840
Anmeldetag
16. Dezember 2020
Veröffentlichung
16. Juni 2022
Rechtsraum
WO
IPC
C08K9/06C08K3/36C08L63/00
Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma
Shenzhen Institutes of Advanced Technology (SIAT), Chinese Academy of Sciences (CAS)
Land
🇨🇳 China
🇨🇳 Shenzhen Institutes of Advanced Technology (siat), Chinese Academy of Sciences (cas)

Die Shenzhen Institutes of Advanced Technology sind eine Forschungseinrichtung der Chinesischen Akademie der Wissenschaften mit Sitz in Shenzhen. Das Patentportfolio konzentriert sich auf Software und Medizintechnik, ergänzt durch Messtechnik und Halbleitertechnik. Die Anmeldungen stammen aus den Jahren 2016 bis 2023.

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