Method and device for surface treatment of quantum dots
WO2022124127
Art A1
16. Juni 2022
Anmelder: SHIN-ETSU CHEMICAL CO., LTD. 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO2022124127
- Aktenzeichen
- EP21903231
- Anmeldetag
- 30. November 2021
- Veröffentlichung
- 16. Juni 2022
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- G02B5/20B82Y40/00C08F290/06C09K11/08F21V9/30F21V11/00
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- SHIN-ETSU CHEMICAL CO., LTD.
- Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
Shin-Etsu Chemical
Japanisches Chemieunternehmen mit Sitz in Tokio. Shin-Etsu Chemical stellt Siliziumwafer für Halbleiter, Silikonprodukte, PVC und weitere Spezialchemikalien für Elektronik-, Bau- und Industrieanwendungen her.
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