Pattern exposure device and pattern exposure method

WO2022124210 Art A1 16. Juni 2022

Anmelder: NIKON CORPORATION 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2022124210
Aktenzeichen: EP21903314
Anmeldetag: 3. Dezember 2021
Veröffentlichung: 16. Juni 2022
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/20G02B26/12

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: NIKON CORPORATION
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Nikon

Japanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Tokio. Nikon entwickelt optische Geräte und Präzisionstechnik, darunter Kameras, Objektive, Mikroskope sowie Lithografie- und Messsysteme für die Halbleiterfertigung.

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Fachgebiete

Optik & Fototechnik

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