Two-dimensional light intensity distribution simulation method for uv-light back lithography process using su-8 photoresist

WO2022126692 Art A1 23. Juni 2022

Anmelder: Southeast University 🇨🇳

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2022126692
Aktenzeichen: EP20965705
Anmeldetag: 22. Dezember 2020
Veröffentlichung: 23. Juni 2022
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/20G06F30/20

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Anmelder

Firma: Southeast University
Land: 🇨🇳 China

🇨🇳 Southeast University

Chinesische Universität mit Sitz in Nanjing, Schwerpunkt auf Ingenieur- und Technikwissenschaften.

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Fachgebiete

Optik & Fototechnik Software & Datenverarbeitung

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