Metal hard mask etching method

WO2022127813 Art A1 23. Juni 2022

Anmelder: Beijing NAURA Microelectronics Equipment Co., Ltd. 🇨🇳

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2022127813
Aktenzeichen: EP21905740
Anmeldetag: 15. Dezember 2021
Veröffentlichung: 23. Juni 2022
Rechtsraum: WO
IPC: H01L21/308H01L21/3065

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Beijing NAURA Microelectronics Equipment Co., Ltd.
Land: 🇨🇳 China

🇨🇳 Beijing NAURA Microelectronics Equipment

Beijing NAURA Microelectronics Equipment ist ein chinesischer Hersteller von Fertigungsanlagen für die Halbleiterindustrie. Das Patentportfolio konzentriert sich auf Halbleiter und elektrische Bauelemente sowie Metallurgie und Oberflächentechnik, mit weiteren Anmeldungen in Elektronik und Prozesssteuerung. Anmeldungen reichen von 2013 bis in die Gegenwart.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente

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