Method for determining mask pattern and training machine learning model

WO2022128500 Art A1 23. Juni 2022

Anmelder: ASML NETHERLANDS B.V. 🇳🇱

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2022128500
Aktenzeichen: EP21836347
Anmeldetag: 2. Dezember 2021
Veröffentlichung: 23. Juni 2022
Rechtsraum: WO
IPC: G03F1/36G03F7/20

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: ASML NETHERLANDS B.V.
Land: 🇳🇱 Niederlande

🇳🇱 ASML

Niederländisches Unternehmen, das Lithografiesysteme und weitere Anlagen für die Halbleiterfertigung entwickelt und herstellt, zentral für die Chipindustrie.

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Fachgebiete

Optik & Fototechnik

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