Radiation-sensitive composition and resist pattern formation method

WO2022130869 Art A1 23. Juni 2022

Anmelder: JSR CORPORATION 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2022130869
Aktenzeichen: EP21906233
Anmeldetag: 15. November 2021
Veröffentlichung: 23. Juni 2022
Rechtsraum: WO
IPC: C09K3/00G03F7/004G03F7/039G03F7/20

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: JSR CORPORATION
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 JSR Corporation

JSR Corporation ist ein japanisches Chemieunternehmen, das synthetische Kautschuke sowie Materialien für die Halbleiter- und Displayindustrie herstellt.

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Fachgebiete

Farben, Klebstoffe & Brennstoffe Optik & Fototechnik

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