Slurry for plasma thermal spraying, method for producing thermally sprayed film, aluminum oxide thermally sprayed film, and thermally sprayed member

WO2022130946 Art A1 23. Juni 2022

Anmelder: SHIN-ETSU CHEMICAL CO., LTD. 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2022130946
Aktenzeichen: EP21906309
Anmeldetag: 29. November 2021
Veröffentlichung: 23. Juni 2022
Rechtsraum: WO
IPC: C23C4/11C23C4/134

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: SHIN-ETSU CHEMICAL CO., LTD.
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Shin-Etsu Chemical

Japanisches Chemieunternehmen mit Sitz in Tokio. Shin-Etsu Chemical stellt Siliziumwafer für Halbleiter, Silikonprodukte, PVC und weitere Spezialchemikalien für Elektronik-, Bau- und Industrieanwendungen her.

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Fachgebiete

Metallurgie & Oberflächentechnik

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