Radiation-sensitive resin composition, pattern formation method, and water repellency-improving agent

WO2022131095 Art A1 23. Juni 2022

Anmelder: JSR CORPORATION 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2022131095
Aktenzeichen: EP21906458
Anmeldetag: 8. Dezember 2021
Veröffentlichung: 23. Juni 2022
Rechtsraum: WO
IPC: C08F12/22C08F20/12G03F7/038G03F7/039G03F7/20

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: JSR CORPORATION
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 JSR Corporation

JSR Corporation ist ein japanisches Chemieunternehmen, das synthetische Kautschuke sowie Materialien für die Halbleiter- und Displayindustrie herstellt.

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Fachgebiete

Kunststoff- & Polymertechnik Optik & Fototechnik

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