Method for treating transition metal semiconductor, and reducing agent-containing treatment liquid for transition metal oxide

WO2022131186 Art A1 23. Juni 2022

Anmelder: TOKUYAMA CORPORATION 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2022131186
Aktenzeichen: EP21906548
Anmeldetag: 13. Dezember 2021
Veröffentlichung: 23. Juni 2022
Rechtsraum: WO
IPC: C23F1/00C23F1/40H01L21/304H01L21/306H01L21/308

Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firma: TOKUYAMA CORPORATION
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Tokuyama

Japanisches Chemieunternehmen mit Sitz in Shunan, gegründet 1918. Produziert unter anderem Spezialchemikalien, Zement und Halbleitermaterialien.

1.073 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Metallurgie & Oberflächentechnik

Vertreten von

Kein Vertreter erfasst.

Noch Fragen?

Wir helfen Ihnen gerne weiter. Schreiben Sie uns einfach.

Kontakt aufnehmen