Low dielectric, low loss radomes and materials for low dielectric, low loss radomes

WO2022132297 Art A1 23. Juni 2022

Anmelder: LAIRD TECHNOLOGIES, INC. 🇺🇸

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2022132297
Aktenzeichen: EP21907399
Anmeldetag: 13. Oktober 2021
Veröffentlichung: 23. Juni 2022
Rechtsraum: WO
IPC: H01Q1/42B32B5/02B32B3/12B32B5/18

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: LAIRD TECHNOLOGIES, INC.
Land: 🇺🇸 USA

🇺🇸 Laird Technologies

Laird Technologies ist ein US-amerikanischer Hersteller von elektromagnetischer Abschirmung und Wärmemanagementlösungen, dessen Geschäft heute Teil von DuPont ist. Das Patentportfolio konzentriert sich auf Halbleiter und elektrische Bauelemente sowie Elektronik- und Schaltungstechnik. Anmeldungen laufen von 2000 bis in die Gegenwart.

367 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Werkzeug-, Fertigungs- & Drucktechnik

Vertreten von