Method for forming semiconductor structure
WO2022133642
Art A1
30. Juni 2022
Anmelder: SEMICONDUCTOR MANUFACTURING INTERNATIONAL (BEIJING, SEMICONDUCTOR MANUFACTURING INTERNATIONAL (SHANGHA 🇨🇳
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO2022133642
- Aktenzeichen
- EP20966223
- Anmeldetag
- 21. Dezember 2020
- Veröffentlichung
- 30. Juni 2022
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- H01L27/146
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firmen
- SEMICONDUCTOR MANUFACTURING INTERNATIONAL (BEIJING
SEMICONDUCTOR MANUFACTURING INTERNATIONAL (SHANGHA - Land
- 🇨🇳 China
🇨🇳
Semiconductor Manufacturing International (Beijing)
Semiconductor Manufacturing International (Beijing) ist die Pekinger Fertigungstochter des chinesischen Chip-Auftragsfertigers SMIC. Das Patentportfolio dreht sich fast vollständig um Halbleiter- und elektrische Bauelemente, mit kleineren Anteilen in Datenspeicherung und Optik. Die Anmeldungen stammen überwiegend aus den Jahren 2016 bis 2021.
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