Method for forming semiconductor structure

WO2022133642 Art A1 30. Juni 2022

Anmelder: SEMICONDUCTOR MANUFACTURING INTERNATIONAL (BEIJING, SEMICONDUCTOR MANUFACTURING INTERNATIONAL (SHANGHA 🇨🇳

Details

Veröffentlichungs-Nr.
WO2022133642
Aktenzeichen
EP20966223
Anmeldetag
21. Dezember 2020
Veröffentlichung
30. Juni 2022
Rechtsraum
WO
IPC
H01L27/146
Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firmen
SEMICONDUCTOR MANUFACTURING INTERNATIONAL (BEIJING
SEMICONDUCTOR MANUFACTURING INTERNATIONAL (SHANGHA
Land
🇨🇳 China
🇨🇳 Semiconductor Manufacturing International (Beijing)

Semiconductor Manufacturing International (Beijing) ist die Pekinger Fertigungstochter des chinesischen Chip-Auftragsfertigers SMIC. Das Patentportfolio dreht sich fast vollständig um Halbleiter- und elektrische Bauelemente, mit kleineren Anteilen in Datenspeicherung und Optik. Die Anmeldungen stammen überwiegend aus den Jahren 2016 bis 2021.

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