Optimization of lithographic process based on bandwidth and speckle

WO2022135953 Art A1 30. Juni 2022

Anmelder: ASML NETHERLANDS B.V., CYMER, LLC. 🇳🇱

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2022135953
Aktenzeichen: EP21839041
Anmeldetag: 9. Dezember 2021
Veröffentlichung: 30. Juni 2022
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/20

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firmen: ASML NETHERLANDS B.V.
CYMER, LLC.
Land: 🇳🇱 Niederlande

🇳🇱 ASML

Niederländisches Unternehmen, das Lithografiesysteme und weitere Anlagen für die Halbleiterfertigung entwickelt und herstellt, zentral für die Chipindustrie.

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🇺🇸 Cymer

Cymer ist ein US-amerikanisches Unternehmen für Lichtquellen zur Halbleiterlithografie, das zum ASML-Konzern gehört. Das Patentportfolio konzentriert sich sehr stark auf Halbleiter und elektrische Bauelemente sowie Optik und Fototechnik. Anmeldungen laufen kontinuierlich seit dem Jahr 2000.

399 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Optik & Fototechnik

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