Multilayer reflective film-equipped substrate, reflective mask blank, reflective mask, and method for producing semiconductor device

WO2022138434 Art A1 30. Juni 2022

Anmelder: HOYA CORPORATION 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2022138434
Aktenzeichen: EP21910582
Anmeldetag: 16. Dezember 2021
Veröffentlichung: 30. Juni 2022
Rechtsraum: WO
IPC: G03F1/24G03F1/48G03F7/20

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: HOYA CORPORATION
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Hoya

Japanischer Konzern mit Sitz in Tokio, aktiv in den Bereichen optische Gläser, Halbleiterfotomasken und medizinische Endoskopie- sowie Augenheilkundeprodukte.

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Fachgebiete

Optik & Fototechnik

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