Resist Underlayer Film Formation Composition

WO2022138454 Art A1 30. Juni 2022

Anmelder: NISSAN CHEMICAL CORPORATION 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2022138454
Aktenzeichen: EP21910602
Anmeldetag: 16. Dezember 2021
Veröffentlichung: 30. Juni 2022
Rechtsraum: WO
IPC: C08G10/02C08G12/26C08G16/02G03F7/11G03F7/20

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: NISSAN CHEMICAL CORPORATION
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Nissan Chemical Corporation

Japanisches Chemieunternehmen mit Sitz in Tokio, das agrochemische Wirkstoffe, elektronische Materialien sowie Feinchemikalien für die Halbleiterindustrie herstellt. Das Unternehmen wurde 1887 gegründet und hieß bis 2015 Nissan Chemical Industries.

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Fachgebiete

Kunststoff- & Polymertechnik Optik & Fototechnik

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