Atomically rough surface preparation process based on backward process

WO2022141239 Art A1 7. Juli 2022

Anmelder: RESEARCH INSTITUTE OF TSINGHUA UNIVERSITY IN SHENZHEN, TSINGHUA UNIVERSITY 🇨🇳

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2022141239
Aktenzeichen: EP20967580
Anmeldetag: 30. Dezember 2020
Veröffentlichung: 7. Juli 2022
Rechtsraum: WO
IPC: H01L21/02B81C1/00B81B5/00B81B7/00B08B1/00

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firmen: RESEARCH INSTITUTE OF TSINGHUA UNIVERSITY IN SHENZHEN
TSINGHUA UNIVERSITY
Land: 🇨🇳 China

🇨🇳 Tsinghua University

Chinesische Universität mit Sitz in Peking, eine der führenden Forschungshochschulen des Landes. Aktiv in Ingenieurwissenschaften, Informatik, Materialwissenschaften und Naturwissenschaften sowie in zahlreichen technischen Anwendungsfeldern.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Verfahrens- & Trenntechnik

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