Method for dry cleaning semiconductor and display chemical vapor deposition chamber using f3no gas

WO2022145701 Art A1 7. Juli 2022

Anmelder: SK SPECIALTY CO., LTD, KOREA ADVANCED INSTITUTE OF SCIENCE AND TECHNOLOGY 🇰🇷

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2022145701
Aktenzeichen: EP21915499
Anmeldetag: 10. November 2021
Veröffentlichung: 7. Juli 2022
Rechtsraum: WO
IPC: C23C16/44

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firmen: SK SPECIALTY CO., LTD
KOREA ADVANCED INSTITUTE OF SCIENCE AND TECHNOLOGY
Land: 🇰🇷 Südkorea

🇰🇷 KAIST

Südkoreanische technische Universität und Forschungsinstitution mit Fokus auf Ingenieurwissenschaften, Naturwissenschaften und Technologieentwicklung, unter anderem in Robotik und Elektronik.

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Fachgebiete

Metallurgie & Oberflächentechnik

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