Mask blank substrate, substrate with multi-layer reflective film, mask blank, method for manufacturing transfer mask, and method for manufacturing semiconductor device

WO2022149417 Art A1 14. Juli 2022

Anmelder: HOYA CORPORATION 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2022149417
Aktenzeichen: EP21917638
Anmeldetag: 14. Dezember 2021
Veröffentlichung: 14. Juli 2022
Rechtsraum: WO
IPC: G03F1/60C03C17/36C23C14/06G02B5/08G03F1/24G03F7/20

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: HOYA CORPORATION
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Hoya

Japanischer Konzern mit Sitz in Tokio, aktiv in den Bereichen optische Gläser, Halbleiterfotomasken und medizinische Endoskopie- sowie Augenheilkundeprodukte.

701 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Anorganische Chemie & Werkstoffe Metallurgie & Oberflächentechnik Optik & Fototechnik

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