Composition, and method for producing semiconductor substrates

WO2022149478 Art A1 14. Juli 2022

Anmelder: JSR CORPORATION 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2022149478
Aktenzeichen: EP21917698
Anmeldetag: 23. Dezember 2021
Veröffentlichung: 14. Juli 2022
Rechtsraum: WO
IPC: C08G77/50C08L83/14G03F7/11G03F7/20

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: JSR CORPORATION
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 JSR Corporation

JSR Corporation ist ein japanisches Chemieunternehmen, das synthetische Kautschuke sowie Materialien für die Halbleiter- und Displayindustrie herstellt.

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Fachgebiete

Kunststoff- & Polymertechnik Optik & Fototechnik

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