Wet etching solution and wet etching method

WO2022149565 Art A1 14. Juli 2022

Anmelder: CENTRAL GLASS COMPANY, LIMITED 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2022149565
Aktenzeichen: EP22736733
Anmeldetag: 4. Januar 2022
Veröffentlichung: 14. Juli 2022
Rechtsraum: WO
IPC: C23F1/18C23F1/28H01L21/306H01L21/308

Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firma: CENTRAL GLASS COMPANY, LIMITED
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Central Glass

Japanisches Unternehmen mit Sitz in Tokio, das Flachglas, Spezialglas sowie Fluorchemikalien für Industrie und Bauwesen herstellt.

1.099 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Metallurgie & Oberflächentechnik

Vertreten von

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